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第三届国际印学峰会征稿

来源:    点击数:    文章作者:篆刻导航网

本届峰会论题范围包括古玺印与文人篆刻等印史研究、篆刻美学与创作理论研究、印章材质与篆刻技法及器用研究、印学文献研究、篆刻学学科建设研究、西泠印社史研究等方面。研讨会论文将编印成集,正式出版。        本届峰会采取向社内外专家、基本作者约稿与公开征稿相结合的形式,邀集印学界同仁进行研讨交流,并特邀部分代表性名家作主题报告。峰会设有评奖程序,来稿论文经评审委员会评审,将选出优秀论文一、二、三等奖共15篇,并颁发获奖证书;获优秀论文奖的前数名社外作者,将结合既往研究成果发表情况,推荐至社长会议,经讨论批准通过后直接吸收入社。为保证评选公平公正,评委及特约专家论文不参加评奖。
        欢迎海内外印学研究同仁踊跃赐稿。若有意参加,请于2011年7月30日前将论文稿(论文一般不超过1万字,要求引文注释详细规范,并附论文提要及关键词、作者简介、既往学术成果发表情况;谢绝已发表论文;来函请注明“峰会投稿”)寄至:
        地址:浙江省杭州市下城区西湖文化广场32号5楼西泠印社社委会
        邮编:310014
        收件人:艺术创研处
        电话:0571-85811976
        传真:0571-85812974
        E-mail:xlyscyc@126.com

 


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